Horno de atmósfera de vacío de sobremesa

Horno de atmósfera de vacío de sobremesa

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El horno de atmósfera de vacío de sobremesa, también conocido como horno de recocido sin oxígeno, integra tecnología de vacío avanzada con capacidades de procesamiento térmico de precisión. Este sistema compacto a escala de laboratorio permite una gama completa de procesos de tratamiento térmico al vacío, aumentando la eficiencia de la sinterización y mejorando significativamente la calidad y densificación del material.

Ideal para la investigación y la producción de lotes pequeños, el horno admite el control personalizado de la atmósfera en función de los requisitos del material:

Atmósfera de oxígeno para cerámicas ferroeléctricas transparentes
Atmósfera de hidrógeno para cerámica de alúmina transparente
Atmósfera de nitrógeno para cerámicas de nitruro (por ejemplo, nitruro de aluminio)
Recocido y cristalización de precisión para materiales de vidrio
Sinterización a alta temperatura de cerámicas electrónicas/estructurales
Procesos de enfriamiento rápido por calentamiento para componentes metálicos
Funcionamiento especializado: Protección contra hidrógeno para sistemas de alambre de molibdeno, funcionamiento protegido contra vacío para sistemas de alambre de tungsteno.

Características principales

Diseño de seguridad compacto
- Construcción de doble carcasa con sistema de refrigeración por aire integrado
- Capacidad de ciclado térmico rápido (RT a temperatura máxima en <30 minutos)
- Funcionamiento en superficie a baja temperatura (<45°C en el exterior)
- Cumple las normas de seguridad CE/UL
Sistema de aislamiento avanzado
- Revestimiento de fibra de alúmina policristalina importada (clasificación 1400°C)
- 30% mayor eficiencia energética frente a los diseños convencionales
- Vida útil prolongada (>10.000 ciclos)
Capacidad multiatmósfera
- Compatible con argón, hidrógeno, nitrógeno y gas de formación
- Bombeo de prevacío a <10Pa
- Sistema de mezcla de dos gases con control de caudal
Conectividad inteligente
- Interfaces USB/RS-485 para integración en PC
- Capacidad de control en red de varias unidades
- Diagnóstico remoto y calibración de la temperatura
Funcionamiento intuitivo
- Pantalla táctil en color de 7 pulgadas con control gestual
- Registro de datos en tiempo real (formato CSV)
- Acceso a archivos históricos en la nube
- Almacenamiento automático de recetas de proceso (más de 500 programas)
Opciones de cámaras modulares
- Tubo de cuarzo (1000°C estándar)
- Tubo de alúmina de gran pureza (opción 1400°C)
- Dimensiones personalizables (ID 50-300 mm)

Aplicaciones

Instituciones académicas de investigación
Desarrollo de material electrónico
Prototipos avanzados de cerámica
Procesado de aleaciones para joyería y odontología
Pruebas de componentes semiconductores
Cualificación de materiales aeroespaciales

Especificaciones técnicas

Gama de temperaturas: RT - 1400°C (estándar) / 1700°C (opcional)
Nivel de vacío: 10-³ Pa (opción de alto vacío)
Precisión de control: ±1°C @ punto de consigna
Elementos calefactores: Varillas de carburo de silicio (SiC)
Fuente de alimentación: 220 V monofásica / 380 V trifásica
Dimensiones: 600×500×700 mm (configuración de sobremesa)

Capacidades mejoradas

Sistema integrado de depuración de gases
Protección contra sobretemperatura con sensores dobles
Diseño a prueba de explosiones para el funcionamiento con hidrógeno
Control de aplicaciones móviles (iOS/Android)
Regulación automática de la presión