Four tubulaire multizone

Four tubulaire multizone

Ce four à tubes multizone avancé est disponible dans des configurations avec 2, 3 ou 5 zones de chauffage contrôlables indépendamment. Conçu pour un traitement thermique de haute précision dans des environnements sous vide ou à atmosphère contrôlée, il excelle dans des applications telles que la précalcination de matériaux, le frittage, le revêtement, la pyrolyse à haute température et les processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour la synthèse de nanotubes de carbone et de nanofils de silicium.

Caractéristiques principales

• Température maximale:
  • 1200°C (fils chauffants FeCrAl)
  • 1400°C (éléments chauffants en SiC)
  • 1600°C (éléments chauffants en MoSi₂)
• Zones de chauffage configurables: Jusqu'à 5 zones contrôlées indépendamment
• Contrôle de précision: Système de contrôle automatique PID programmable à 50 segments avec une précision de température de ±1°C
• Conception de la sécurité:
  • Structure à double enveloppe refroidie par air (température de surface <50°C)
  • Protection contre la surchauffe avec coupure automatique de l'alimentation
  • Arrêt de sécurité en cas de fuite électrique
• Performance du vide:
  • Niveau de vide de base de -0,1 MPa
  • Le système de pompe moléculaire optionnel permet d'atteindre un vide ultime de 7×10-⁴ Pa
• La construction:
  • Système de bride à double joint en acier inoxydable 304
  • Supports de bride d'extrémité réglables pour prolonger la durée de vie des tubes du four
• Paramètres opérationnels:
  • Vitesse de chauffe ≤20°C/min
  • Compatible avec les environnements sous vide/gaz inerte

Configuration standard

• Tube de four en quartz de haute pureté (1 pièce)
• Assemblage de la bride d'étanchéité au vide (1 jeu)
• Manomètre à vide (1 pc)
• Bouchons de tube (2 pièces)
• Pompe à vide à palettes (1 jeu)

Améliorations optionnelles

• Systèmes de vide améliorés (pompe à diffusion, pompe turbomoléculaire)
• Contrôle de précision des gaz (débitmètre à flotteur, régulateur de débit massique)
• Brides de fixation rapide et brides de jonction en T
• Interface tactile HD de 7 pouces

Applications
Idéal pour la recherche universitaire et la production industrielle :

• Matériaux céramiques avancés
• Synthèse de nanomatériaux (NTC, nanofils)
• Traitement des semi-conducteurs
• Développement de catalyseurs
• Dépôt de revêtement fonctionnel

Ce four associe une conception modulaire à des caractéristiques de sécurité robustes, offrant une uniformité de température exceptionnelle et une grande souplesse de traitement pour les applications exigeantes de la science des matériaux.