Four atmosphérique à vide de bureau

Four atmosphérique à vide de bureau

Aperçu du produit
Le four à atmosphère sous vide de bureau, également connu sous le nom de four de recuit sans oxygène, intègre une technologie du vide avancée avec des capacités de traitement thermique de précision. Ce système compact à l'échelle du laboratoire permet une gamme complète de processus de traitement thermique sous vide, améliorant l'efficacité du frittage tout en améliorant de manière significative la qualité et la densification des matériaux.

Idéal pour la recherche et la production de petites séries, le four permet un contrôle personnalisé de l'atmosphère en fonction des exigences des matériaux :

• Atmosphère d'oxygène pour les céramiques ferroélectriques transparentes
• Atmosphère d'hydrogène pour les céramiques d'alumine transparentes
• Atmosphère d'azote pour les céramiques à base de nitrure (par exemple, nitrure d'aluminium)
• Recuit de précision et cristallisation pour les matériaux en verre
• Frittage à haute température pour les céramiques électroniques/structurelles
• Procédés de trempe par chauffage rapide pour les composants métalliques
• Fonctionnement spécialisé : Protection contre l'hydrogène pour les systèmes de fils en molybdène, fonctionnement sous vide pour les systèmes de fils en tungstène.

Caractéristiques principales

1. Conception compacte de sécurité
   • Construction à double coque avec système de refroidissement par air intégré
   • Capacité de cyclage thermique rapide (de la température ambiante à la température maximale en moins de 30 minutes)
   • Fonctionnement en surface à basse température (<45°C à l'extérieur)
   • Conforme aux normes de sécurité CE/UL
2. Système d'isolation avancé
   • Revêtement en fibre d'alumine polycristalline importée (1400°C)
   • 30% : une plus grande efficacité énergétique par rapport aux modèles conventionnels
   • Durée de vie prolongée (>10 000 cycles)
3. Capacité multi-atmosphère
   • Compatible avec l'argon, l'hydrogène, l'azote et le gaz de formage
   • Pompage sous vide préalable à <10Pa
   • Système de mélange de deux gaz avec contrôle du débit
4. Connectivité intelligente
   • Interfaces USB/RS-485 pour l'intégration dans un PC
   • Capacité de contrôle d'un réseau à plusieurs unités
   • Diagnostic à distance et étalonnage de la température
5. Fonctionnement intuitif
   • Écran tactile couleur de 7 pouces avec contrôle gestuel
   • Enregistrement des données en temps réel (format CSV)
   • Accès aux archives historiques dans le nuage
   • Stockage automatique des recettes de processus (plus de 500 programmes)
6. Options de chambres modulaires
   • Tube en quartz (1000°C standard)
   • Tube en alumine de haute pureté (option 1400°C)
   • Dimensions personnalisables (ID 50-300mm)

Applications

• Institutions de recherche universitaire
• Développement de matériaux électroniques
• Prototypage avancé de céramiques
• Traitement des alliages pour la bijouterie et les soins dentaires
• Essais de composants semi-conducteurs
• Qualification des matériaux aérospatiaux

Spécifications techniques

• Plage de température : RT - 1400°C (standard) / 1700°C (en option)
• Niveau de vide : 10-³ Pa (option vide poussé)
• Précision du contrôle : ±1°C au point de consigne
• Éléments chauffants : Barres de carbure de silicium (SiC)
• Alimentation électrique : 220V monophasé / 380V triphasé
• Dimensions : 600×500×700mm (configuration de bureau)

Capacités renforcées

• Système intégré de purification des gaz
• Protection contre la surchauffe grâce à deux capteurs
• Conception antidéflagrante pour le fonctionnement à l'hydrogène
• Contrôle de l'application mobile (iOS/Android)
• Régulation automatique de la pression