Four tubulaire à refroidissement rapide à glissière

Four tubulaire à refroidissement rapide à glissière

This slide-type tube furnace utilizes high-purity quartz tubes as the reaction chamber, offering a temperature range of 0°C to 1200°C. Engineered for precision thermal processing under vacuum or controlled atmospheres, it excels in applications requiring rapid temperature changes. Its automated sliding mechanism enables efficient material handling, making it ideal for graphene growth, high-temperature sintering, atmospheric reduction, CVD experiments, and vacuum annealing in academic and industrial settings.

Caractéristiques principales

• Température maximale: 1200°C (FeCrAl heating wires)
• Automated Sliding System:
  • Motorized sliding rail (standard length: 1200mm)
  • Automated lateral movement for unattended rapid cooling/heating
  • Enables precise thermal shock experiments (≤20°C/min heating rate)
• Contrôle de précision:
  • Auto-réglage PID programmable sur 50 segments (précision de ±1°C)
  • Dual-zone temperature control capability
• Conception structurelle:
  • Boîtier à double paroi refroidi par air (température de surface <50°C)
  • Système de bride à double joint en acier inoxydable 304
  • Adjustable flange supports for extended tube lifespan
• Systèmes de sécurité:
  • Protection contre la surchauffe avec coupure automatique de l'alimentation
  • Electrical leakage detection and instant shutdown
  • Fonction d'arrêt d'urgence
• Atmospheric Control:
  • Compatible with vacuum (-0.1 MPa base pressure) and inert gas environments
  • La pompe moléculaire optionnelle permet d'atteindre un vide ultime de 7×10-⁴ Pa
  • Multi-gas mixing system with mass flow control

Configuration standard

• Tube de four en quartz de haute pureté (1 pièce)
• Motorized sliding rail assembly (1200mm)
• Vacuum-sealing flange set (1 set)
• Manomètre à vide (1 pc)
• Bouchons d'extrémité (2 pièces)
• Pompe à vide à palettes (1 jeu)

Améliorations optionnelles

• Systèmes de vide améliorés (pompe à diffusion, pompe turbomoléculaire)
• Precision gas control (thermal mass flow controller, multi-channel gas mixer)
• Brides de fixation rapide et composants de jonction en T
• Interface tactile HD de 7 pouces
• Adjustable-speed electric slide rail system

Applications typiques

• Graphene/2D material synthesis
• Semiconductor device annealing
• Catalyst reduction studies
• Thermal shock testing of materials
• CVD coating processes
• High-temperature sintering under controlled atmospheres

Avantages de la conception

• Automated sliding mechanism for rapid thermal cycling
• Superior thermal uniformity (±2°C across working zone)
• Configuration modulaire pour la flexibilité des processus
• Conformité à la norme de sécurité certifiée CE
• User-friendly programmable interface with recipe storage

This slide-type furnace combines dynamic material handling with precise temperature control, offering researchers an efficient solution for experiments requiring rapid thermal transitions. Its automated sliding system significantly reduces processing time while maintaining exceptional thermal stability, making it ideal for advanced materials research and industrial production.