Forno tubolare a più zone

Forno tubolare a più zone

Questo avanzato forno a tubi multizona è disponibile in configurazioni con 2, 3 o 5 zone di riscaldamento controllabili in modo indipendente. Progettato per processi termici di alta precisione in ambienti sotto vuoto o in atmosfera controllata, eccelle in applicazioni come la precalcificazione dei materiali, la sinterizzazione, il rivestimento, la pirolisi ad alta temperatura e i processi di deposizione di vapore chimico (CVD) per la sintesi di nanotubi di carbonio e nanowire di silicio.

Caratteristiche principali

• Temperatura massima:
  • 1200°C (fili riscaldanti in FeCrAl)
  • 1400°C (elementi riscaldanti in SiC)
  • 1600°C (elementi riscaldanti in MoSi₂)
• Zone di riscaldamento configurabili: Fino a 5 zone controllate in modo indipendente
• Controllo di precisione: Sistema di autocontrollo PID programmabile a 50 segmenti con precisione di temperatura di ±1°C
• Design della sicurezza:
  • Struttura a doppio guscio raffreddata ad aria (temperatura superficiale <50°C)
  • Protezione da sovratemperatura con spegnimento automatico
  • Arresto di sicurezza per perdite elettriche
• Prestazioni del vuoto:
  • Livello di vuoto di base di -0,1 MPa
  • Il sistema di pompa molecolare opzionale raggiunge un vuoto finale di 7×10-⁴ Pa
• Costruzione:
  • Sistema di flange a doppia tenuta in acciaio inox 304
  • Supporti delle flange terminali regolabili per una maggiore durata del tubo del forno
• Parametri operativi:
  • Velocità di riscaldamento ≤20°C/min
  • Compatibile con ambienti sottovuoto/gas inerti

Configurazione standard

• Tubo per forno al quarzo di elevata purezza (1 pz)
• Gruppo flangia di tenuta sottovuoto (1 set)
• Manometro a vuoto (1 pz)
• Tappi per tubi (2 pezzi)
• Pompa per vuoto rotativa a palette (1 set)

Aggiornamenti opzionali

• Sistemi di vuoto potenziato (pompa di diffusione, pompa molecolare turbo)
• Controllo di precisione del gas (flussimetro a galleggiante, regolatore di portata massica)
• Flange a sgancio rapido e flange di giunzione a T
• Interfaccia touchscreen HD da 7 pollici

Applicazioni
Ideale per la ricerca accademica e la produzione industriale di:

• Materiali ceramici avanzati
• Sintesi di nanomateriali (CNT, nanofili)
• Lavorazione dei semiconduttori
• Sviluppo del catalizzatore
• Deposizione di un rivestimento funzionale

Questo forno combina un design modulare con robuste caratteristiche di sicurezza, offrendo un'eccezionale uniformità di temperatura e flessibilità di processo per le applicazioni di scienza dei materiali più esigenti.